Formación y evaluación de películas nanostructuradas de MoO3 obtenidas por HFCVD como capa activa en sensores de gases conductimétricos
María Fernanda Hernández Rodríguez¹˒²; Carlos Felipe Mendoza²; Ariel Guzman Vargas¹; Oscar Goiz Amaro³; Enrique Lima⁴
1. Laboratorio de Investigación en Materiales Porosos, Catálisis Ambiental y Química Fina (LiMpCa-QuF), ESIQIE, Instituto Politécnico Nacional, UPALM CDMX, 07738, México 2. Departamento de Biociencias e Ingeniería, CIIEMAD, Instituto Politécnico Nacional, Ciudad de México, 07340, México 3. Unidad Profesional Interdisciplinaria en Ingeniería y Tecnologías Avanzadas, UPIITA, Instituto Politécnico Nacional, Ciudad de México, 07340, México. 4. Laboratorio de Fisicoquímica y Reactividad de Superficies (LaFReS), IIM, Universidad Nacional Autónoma de México, Ciudad de México, 04510, México
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Abstract
Se sintetizaron películas delgadas nanoestructuradas de MoO₃ mediante la técnica de depósito químico de vapor asistido por filamento caliente (HFCVD), evaluando el efecto del tratamiento térmico sobre sus propiedades estructurales, morfológicas, ópticas y químicas. Las películas fueron caracterizadas mediante SEM, XRD, Raman, TEM, XPS y UV-Vis, observándose una evolución hacia la fase cristalina α-MoO₃ con el incremento de la temperatura de recocido. Asimismo, las películas fueron integradas como capa activa en sensores conductimétricos y evaluadas frente a diferentes gases y compuestos volátiles. Los resultados muestran que HFCVD constituye una alternativa viable para la obtención de películas de MoO₃ con propiedades ajustables mediante tratamiento térmico y potencial aplicación en sensores de gases.
Keywords: MoO₃; HFCVD; sensores de gases.